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材料科学与工程学报, 2017, 35(2): 224-227.
10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2017.02.011
低折射率疏水SiO2薄膜的制备和表征

姜洪义 1, , 郑威 2, , 海鸥 3, , 李明 4, , 徐东 5,

1.武汉理工大学材料科学与工程学院,湖北武汉,430070;
2.武汉理工大学材料科学与工程学院,湖北武汉,430070;
3.武汉理工大学材料科学与工程学院,湖北武汉,430070;
4.武汉理工大学材料科学与工程学院,湖北武汉,430070;
5.武汉理工大学材料科学与工程学院,湖北武汉,430070
为了制备低折射率疏水SiO2薄膜,将正硅酸乙酯(TEOS)和二甲基二乙氧基硅烷(DDS)在碱性条件下共水解缩聚,再以六甲基二氮硅烷(HMDS)做进一步的改性,采用提拉浸渍工艺在玻璃基底上制备单层增透膜.通过对溶胶粘度随老化时间的变化规律及HMDS添加对薄膜接触角影响等的分析与研究,制备了接触角最大的低折射率薄膜;同时对薄膜的红外特性、透过率、折射率进行了表征.结果表明:TEOS和DDS共水解缩聚提高了膜层疏水性,经HMDS改性后,薄膜的接触角为149°,折射率为1.12.
关键词： 溶胶-凝胶   疏水   折射率   改性
引用： 姜洪义, 郑威, 海鸥, 李明, 徐东 低折射率疏水SiO2薄膜的制备和表征. 材料科学与工程学报, 2017, 35(2): 224-227. doi: 10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2017.02.011
参考文献：

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